等離子去膠機是一種利用低溫等離子體技術(shù)去除半導體、微電子、光電等領(lǐng)域中光刻膠殘留的設備，其原理基于等離子體的物理和化學(xué)作用，能夠高效、環(huán)保地去除有機污染物，廣泛應用于芯片制造、封裝測試等工藝環(huán)節。
 

　　氣體電離：在真空腔體內，通過(guò)射頻(RF)電源或微波電源激發(fā)惰性氣體(如氬氣Ar、氧氣O2、氮氣N2)或反應性氣體(如CF2、SF2)，使其電離形成等離子體。
 

　　等離子體特性：等離子體由高能電子、離子、自由基和中性粒子組成，具有高反應活性和能量，能夠與光刻膠發(fā)生化學(xué)反應或物理轟擊。
 

　　氧氣等離子體：O2在等離子體中分解為氧原子(O2)，與光刻膠中的碳氫化合物(C2H2)發(fā)生氧化反應，生成CO2、H2O等揮發(fā)性氣體，被真空泵抽出。
 

　　反應式：C2H2 + O2→ CO2 + H2O + 其他揮發(fā)性產(chǎn)物
 

　　惰性氣體等離子體(如Ar)：高能離子和中性粒子對光刻膠表面進(jìn)行物理轟擊，剝離或刻蝕光刻膠層，適用于去除較厚或難以氧化的光刻膠。
 

　　氣體流量：調節O2、Ar等氣體的比例，控制化學(xué)反應和物理轟擊的強度。
 

　　功率與時(shí)間：調整射頻功率和去膠時(shí)間，優(yōu)化去膠效率和表面質(zhì)量。
 

　　壓力與溫度：維持腔體內低壓環(huán)境(通常為1-100 Pa)，確保等離子體穩定生成；低溫操作(常溫至100℃)避免熱損傷。
 

　　等離子去膠機的優(yōu)點(diǎn)：
 

　　快速去除：等離子體與光刻膠的反應速率高，去膠時(shí)間通常為幾分鐘至幾十分鐘，遠快于傳統濕法去膠(需數小時(shí))。
 

　　無(wú)化學(xué)廢液：等離子去膠無(wú)需使用有機溶劑(如丙酮、NMP)，減少化學(xué)廢液排放，符合環(huán)保要求。
 

　　低溫操作：避免高溫導致的材料變形或性能退化，適用于對溫度敏感的器件(如柔性電子、生物芯片)。
 

　　選擇性去膠：通過(guò)調節工藝參數，可實(shí)現對光刻膠的選擇性去除，保護底層材料(如金屬、氧化物)。
 

　　適用多種材料：可去除正性光刻膠、負性光刻膠、聚酰亞胺等有機材料，適用于硅、玻璃、陶瓷、聚合物等多種基底。
 

　　與后道工藝兼容：去膠后表面清潔度高，無(wú)殘留，可直接進(jìn)行下一步工藝(如鍍膜、刻蝕)。
 

　　自動(dòng)化控制：設備配備PLC或計算機控制系統，可實(shí)現工藝參數的準確控制和自動(dòng)化運行。
 

　　易于集成：可與光刻機、刻蝕機、鍍膜機等設備集成，形成完整的半導體生產(chǎn)線(xiàn)。
 

　　等離子去膠機通過(guò)低溫等離子體技術(shù)，實(shí)現了高效、環(huán)保、低損傷的光刻膠去除，具有去膠效率高、環(huán)保無(wú)污染、表面損傷小、工藝兼容性強等優(yōu)點(diǎn)。在半導體、微電子、光電等領(lǐng)域，已成為不可少的關(guān)鍵設備。隨著(zhù)技術(shù)的不斷發(fā)展，將向、更智能、更環(huán)保的方向邁進(jìn)，為微納制造領(lǐng)域提供強大的支持。