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文章導讀國際ZM學術期刊《NanoLetters》（ACS旗下納米科技期刊《納米快報》）在線發表了關于COT（晶體軸對齊氧插值晶體管）的突破性研究成果。該研究創新性地在單一器件中集成偏振傳感、光電流存儲與光電邏輯功能，為下一代高速低功耗傳感-存儲-計算一體化系統提供了全新技術路徑...

“新材料王”的誕生，離不開更好的“表面功夫”。2026年4月7日至10日，第十三屆深圳國際石墨烯論壇暨第二屆二維材料國際研討會在清華大學深圳國際研究生院盛大啟幕。大會名譽主席由中國科學院成會明院士與康飛宇教授擔任，大會主席由任文才研究員和劉碧錄教授擔任。現場還匯聚了包括諾貝爾獎得...

CIF合作客戶團隊在高效晶硅太陽能電池與鈣鈦礦/硅疊層光伏領域的突破性研究成果榮登能源領域QW期刊《NatureEnergy》，影響因子：60.1！這項工作圍繞隧道氧化層鈍化接觸（TOPCon）電池結構展開深度優化，不僅突破了傳統TOPCon電池的效率瓶頸，更為下一代高穩定、可工...

在現代高精度制造領域，產品表面的潔凈程度往往直接影響性能。氧等離子清洗機作為一種先進的干法清洗設備，正以其清潔能力和無損特性，在半導體、醫療、光學等產業中扮演著日益關鍵的角色。氧等離子清洗機是一種采用氧氣等離子體技術的高效清洗設備，能夠快速清除各種材料表面的污染物，如污漬、油脂、...

在微納米尺度的加工與材料分析中，如何精準去除一層薄薄的有機物而不傷及基底，是一項非常有挑戰性的任務。等離子灰化儀，正是為應對這一挑戰而生的精密設備。它利用高能等離子體，在低溫環境下實現有機物的“干法”去除，被譽為微觀世界的“干式清潔工”。等離子灰化儀，又稱等離子清洗機或等離子去膠...

RIE反應離子刻蝕機(ReactiveIonEtcher)作為一款融合等離子體物理與化學刻蝕的精密設備，能實現對材料的高選擇性、高anisotropy(各向異性)刻蝕，憑借刻蝕精度高、工藝可控性強的優勢，成為微納加工領域不可少的核心裝備。RIE反應離子刻蝕機的核心優勢源于“物理轟...

紫外臭氧清洗機的核心功能，是利用紫外線照射產生臭氧，通過臭氧的強氧化性和紫外線的光解作用，分解去除物體表面的有機污染物，同時實現一定的殺菌消毒效果。其核心作用圍繞“無殘留清洗、精密防護、潔凈保障”展開，具體可分為三類：有機污染物精準去除。這是最核心的功能。無論是半導體晶圓表面的有...

國際zm學術期刊《NanoLetters》（ACS旗下dj納米科技期刊《納米快報》）在線發表了關于二維（2D）磁性半導體CrSBr力學性能的系統性研究成果。該研究深入探索了CrSBr的彈性各向異性、層間耦合及疲勞抗性等核心特性，為下一代應變可調自旋電子器件的研發奠定了重要基礎。使...