勻膠旋涂?jì)x通過(guò)高速旋轉基片，利用離心力將滴加在基片表面的膠液均勻鋪展，形成納米至微米級厚度的薄膜。
勻膠旋涂?jì)x的構成：
1、旋轉平臺：放置基底的核心部件，通常采用真空吸附或機械夾持固定基底，材質(zhì)多為耐腐蝕金屬或陶瓷。
2、驅動(dòng)系統：由高精度電機驅動(dòng)，可準確控制旋轉速度和加速度，確保轉速穩定。
3、控制系統：通過(guò)微處理器或 PLC 實(shí)現自動(dòng)化控制，可預設旋轉程序，部分機型支持觸摸屏操作和數據存儲。
4、防護裝置：包括透明防護罩、廢液收集槽，部分機型配備通風(fēng)系統。
5、滴膠輔助裝置：部分設備集成自動(dòng)滴膠系統，可精準控制滴膠量和滴膠位置，減少人為操作誤差。
關(guān)鍵參數：
1、轉速范圍：通常為 100-10000 rpm，部分設備可達 20000 rpm 以上，轉速精度直接影響薄膜均勻性。
2、旋轉時(shí)間：可設置 0.1 秒至數分鐘，多段時(shí)間 - 轉速組合滿(mǎn)足復雜涂覆需求。
3、加速度/減速度：控制轉速變化的快慢，避免液體因劇烈加速而飛濺或分布不均。
4、基底尺寸：支持圓形或方形，不同機型適配范圍不同。
5、真空吸附力：確?；自诟咚傩D時(shí)不位移，吸附力需根據基底材質(zhì)和厚度調整。
地址：北京市豐臺區科興路7號國際企業(yè)孵化中心301室
郵箱：cif_lab@163.com
傳真：86-010-63752028